径向误差补偿方法。能作为显影剂的物质必须具有适当的还原能力（还原速度适中），有优良的选择还原性，即能使已曝光的卤化银迅速地还原，而对未曝光的物质保持不变。在PMD1000设备中，显影液是通过安装在腔体上方的喷嘴以扇形喷洒到掩模版上。当掩模版处于低位置时，喷嘴角度被调整到对准掩模版中心。在掩模版旋转过程中，掩模版中心一直处于新鲜显影液覆盖范围，因此掩模版中心位置的显影程度会高于周边位置，从而造成中心CD比周边大。如果径向误差分析显示这种情况，需要通过调整掩模版显影高度来对周边进行补偿。
显影配方中亚硫酸钠用量的一般原则
1）容易氧化的显影剂比不易氧化的显影剂用量要多。
2）用强碱作促进剂的配方中，亚硫酸钠的用量要多些。这是由于显影剂在碱性较强的溶液中，氧化速度比较快l。
3）显影液浓度低时用量多。这是因为显影剂在稀溶液中电离度增大，易氧化。
4）微粒显影液中的亚硫酸钠的用量较多。
5）高温快速冲洗的显影液中，由于防氧化的要求较高，一般用量多。
蚀刻、曝光和显影的意思分别是：
1、蚀刻：
一种将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
2、曝光：
指在摄影过程中进入镜头照射在感光元件上的光量，由光圈、快门、感光度的组合来控制。通常是指使感光纸或摄影胶片感光，摄影感光材料的感光。
3、显影：
在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通常指在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程。
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