曝光后的干膜有些需要放置10～15min后才能显影，这必须根据实际情况，根据干膜的要求执行。
利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应，
曝光显影技术优势
1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题；
2、图形转印技术单层、多层套印精度高；
3、雾化喷涂确保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；
4、采用图形转印技术，良率较高；
5、4-6寸盖板单制程产能优势明显；
6、较薄的油墨利于贴合，提高制程整体良率；
油墨喷涂
通过控制喷嘴的流量和传输速度实现油墨的均匀喷涂，无论两面曲四面曲皆能达到表面油墨均匀细腻，下图这款设备有效加工区宽度达500mm，方式为极速雾化式喷涂。
普通的明矾和。基本原则大体是：金属被蚀刻时先要清洗，之后图上一层耐酸物质。
曝光时间，s。
从上式可以看出，曝光总能量e随光强度j和曝光时间t而变化。曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光，对于空白的蚀刻钢片感光，钢片感光的油墨发生聚合反应，然后通过显影机，蚀刻钢片上的感光油墨不被显影液所融化，
底片尺寸的稳定性随环境的温度和贮存时间而变化。所以，底片的生产、贮存和使用采用恒温的环境，采用厚底片也能提高照相底片的尺寸稳定性。曝光不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。
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